印製電路板化學鍍鎳的主要功能
作者:匿名 發布時間:2019-01-21 18:07:59 點擊:2538
印製板元器件之間有可靠性良好的電力連接,以及焊接牢固性,這就必須要求印製板面不能有任何形式的沾汙或金屬的氧化。金沉積時鎳層是無氧化的純鎳,金由於其獨贏麴化學穩定性,它可長期儲存而不氧化,保證了印製板的可焊.性及外觀。
孔隙率
化學鍍鎳層的孔隙率比相同厚度電鍍鎳層要低。酸性鍍液比鹼性鍍液沉積出的鎳層孔隙率也要低。影響孔隙率的因素如下。
(1)化學鍍鎳層的厚度
(2)化學鍍鎳液的組成
鍍件表面光潔度越高,鍍層越厚,孔隙率越低。
(4)化學鍍鎳液的清潔度
在化學鍍鎳過程中,採用連續過濾,保持鍍液無懸浮物、雜質、沉澱物,從而降低鍍層的孔隙率。
(5)化學鍍鎳層的熱處理
通常化學鍍鎳層經熱處理後,不但鍍層硬度得到提高,而且鍍層孔隙率也有顯著降低。
硬度
化學鍍鎳層的硬度對於線焊接性、觸摸焊盤接觸性、印製電路板插頭等都是非常重要的。化學鍍鎳層的硬度比電鍍鎳的硬度要高2~3倍,經過適當熱處理後,其硬度還可提高。
孔隙率
化學鍍鎳層的孔隙率比相同厚度電鍍鎳層要低。酸性鍍液比鹼性鍍液沉積出的鎳層孔隙率也要低。影響孔隙率的因素如下。
(1)化學鍍鎳層的厚度
化學鍍鎳層的孔隙率隨厚度的新增而减少。當厚度達到15μm時基本上沒有孔隙。
(2)化學鍍鎳液的組成
鍍液中加入適當的添加劑,可使鍍層結晶緻密而同時降低孔隙率。
(3)鍍件表面光潔度
鍍件表面光潔度越高,鍍層越厚,孔隙率越低。
(4)化學鍍鎳液的清潔度
在化學鍍鎳過程中,採用連續過濾,保持鍍液無懸浮物、雜質、沉澱物,從而降低鍍層的孔隙率。
(5)化學鍍鎳層的熱處理
通常化學鍍鎳層經熱處理後,不但鍍層硬度得到提高,而且鍍層孔隙率也有顯著降低。
硬度
化學鍍鎳層的硬度對於線焊接性、觸摸焊盤接觸性、印製電路板插頭等都是非常重要的。化學鍍鎳層的硬度比電鍍鎳的硬度要高2~3倍,經過適當熱處理後,其硬度還可提高。
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